Pemanasan inframerah untuk industri semikonduktor

Dengan perkembangan teknologi yang terus menerus, teknologi pemanasan inframerah secara bertahap menjadi fokus perhatian orang.dan bidang lain karena keuntungannya dari efisiensi tinggi, perlindungan lingkungan, dan keselamatan.

Prinsip dan karakteristik pemanasan inframerah:

Teknologi pemanasan inframerah memanfaatkan karakteristik bahan semikonduktor yang menyerap cahaya inframerah dan mengubahnya menjadi panas untuk mencapai pemanasan objek target.Prinsip inti adalah bahwa ketika bahan semikonduktor menyerap cahaya inframerah, elektron transisi dari band valensi ke band konduksi, membentuk arus listrik dan menghasilkan panas.Dengan demikian mencapai efek pemanasan.

Teknologi pemanasan inframerah memiliki karakteristik berikut:

● Efisiensi: Karena energi cahaya inframerah yang tinggi, bahan semikonduktor dapat dengan efisien mengubahnya menjadi panas, sehingga mencapai pemanasan yang cepat.

● Ramah lingkungan: Teknologi pemanasan inframerah tidak menghasilkan zat berbahaya sewaktu digunakan, dan tidak ada polusi kebisingan, sehingga metode pemanasan ini ramah lingkungan.

● Keselamatan: Karena pemanasan inframerah murni pemanasan resistif, arus tidak akan melewati bahan semikonduktor itu sendiri, sehingga memiliki keamanan yang tinggi.

● Penggunaan yang luas: Peralatan pemanasan inframerah bervolume kecil, mudah dipasang, dan cocok untuk berbagai bentuk dan ukuran.

Aplikasi teknologi pemanasan inframerah

1. Perangkat pemanas wafer

Wafer silikon adalah bahan semikonduktor penting yang banyak digunakan di bidang seperti pembuatan sirkuit dan panel surya.yang dapat menghilangkan zat organik dan gelembung, mengaktifkan bahan, menyesuaikan bentuk, meningkatkan struktur bahan, dll, memastikan kemurnian permukaan dan kualitas wafer silikon,dan memungkinkan mereka untuk memainkan peran yang lebih baik di berbagai bidang aplikasiDengan memanfaatkan radiasi inframerah (IR) untuk menghasilkan panas padat, suhu wafer dapat diukur dengan akurat oleh pirometer inframerah.

Dalam sistem RTP, lampu di sisi atas dan bawah ditempatkan secara vertikal untuk secara merata memanaskan wafer dengan radiasi inframerah.Suhu wafer dipantau oleh pirometer dan kemudian dikendalikan melalui umpan balik daya dari lampu halogen wolframPermukaan yang dipanaskan menerima energi radiasi garis merah rata-rata, secara efektif mengurangi masalah kualitas proses yang merugikan yang disebabkan oleh suhu yang tidak merata.

2. Tungku pengisap aliran balik vakum

Tungku reflow vakum adalah proses pengelasan produk berkualitas tinggi di lingkungan vakum, yang digunakan untuk melindungi produk dan solder dari oksidasi di bawah kondisi vakum.Pada saat yang sama, ia bereaksi dengan oksida di permukaan produk dan pengelasan untuk meningkatkan kualitas permukaan las dan mengurangi porositas las.Umumnya digunakan dalam produk presisi tinggi seperti aerospace, medis, dan otomotif. ruang vakum dilengkapi dengan sistem pemanas built-in, yang mengadopsi prinsip pemanasan radiasi inframerah.Pengelasan aman suhu ultra rendah, tidak ada perbedaan suhu, tidak ada overheating, parameter proses yang dapat diandalkan dan stabil, tidak perlu tes proses yang kompleks, dan biaya operasi lingkungan yang rendah.Batch kecil, dan pengelasan produk militer yang handal.

3. Tungku galvanisasi vakum

Tungku galvanisasi vakum adalah perangkat yang digunakan untuk galvanisasi permukaan logam atau bahan lain.Dengan demikian meningkatkan kualitas dan daya tahan lapisan galvanisasi. Mengontrol suhu adalah langkah penting dalam mengoperasikan tungku galvanisasi vakum. Secara keseluruhan, kontrol suhu tungku galvanisasi vakum sangat penting.Dengan memanfaatkan karakteristik pemanasan inframerah, kontrol suhu yang tepat dan memastikan keseragaman suhu dapat secara efektif meningkatkan kualitas dan daya tahan lapisan galvanisasi,memenuhi persyaratan proses galvanisasi yang berbedaPada saat yang sama, juga dapat memastikan keamanan dan stabilitas proses galvanisasi.